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膜厚儀一些測量基本原理
點擊次數：4870 更新時間：2021-08-03 打印本頁面 返回
有的人又把膜厚儀稱為膜厚測量儀，主要分為兩種類型，一種類型是手持式與臺式兩種，手持式的膜厚測量儀又有好幾種類型，比如說電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線鍍層膜厚測量儀。手持式的測量儀采用的測量原理是利用探頭經過非鐵磁覆蓋二流入鐵磁基體磁通的大小。對于，膜厚儀很多人對它測量原理是非常感興趣的，我們一起來了解一下它的測量原理。
我們已經學習了手持膜厚儀的測量原理，接著我們再來學習一下臺式測厚儀的測量原理。一些技術人員告訴我們，臺式的熒光X射線膜厚儀，是一種通過一次X射線穿透金屬元素樣品的而產生的低能量的光子，這種低能量的光子又被稱為二次熒光。可以通過高級計算機對這種能量進行計算，這種能量計算出來的值可以對厚度進行一定的衡量。
在膜厚儀中，比較流行的測量原理就是電渦流測量原理，我們一起來對電渦流測量原理進行比較詳盡的學習，高頻的交流信號一般會在側頭線圈中產生一定的電磁場，當測試的探頭靠近導體的時候，就會在它的附加產生渦流。如果測試探頭離導體的基體越近，它的渦流就會越大，反射阻抗肯定也會更大。事實上，這是一個反饋作用的過程，這個過程中表征了測試探頭與導電基體之間距離的大小，換句話說，這就是導體導電基體上非導電覆層厚度的大小。
采用電渦流測試的原理，原則上需要對導體上的非導電體覆蓋層均可以進行測量，技術人員告訴我們，覆層材料是有一定的導電性的，通過校準也是可以同時進行測量的，不過在這其中，有一個比較明顯的要求就是兩個的導電率最好是相差3到5倍左右。
這就是跟朋友們介紹分享的膜厚儀一些測量基本原理，本文主要介紹了手持式膜厚測試儀的測量原理、臺式膜厚測試儀的測量原理，及其在膜厚測試儀比較流行的測量原理，這種測量原理就是電渦流測量原理。在測量原理中，鋼鐵經常作為基體的導電體。
